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一种设备，包括N个量子比特的分组和相干光源，其中N等于或大于2，该相干光源被配置为在给定针对至少第一激光脉冲和第二激光脉冲的参数集的所选值的情况下，该参数选自相对相位偏移、激光频率、激光强度和脉冲持续时间：将至少第一激光脉冲和第二激光脉冲施...
该专利属于麻省理工学院所有，仅供学习研究参考，未经过麻省理工学院授权不得商用。

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