下载碳化硅表面缺陷态能量分布测量方法、系统及存储介质的技术资料

文档序号:32781403

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本发明提供了一种碳化硅表面缺陷态能量分布测量方法、系统及存储介质,先分别在不同施加电压、不同温度、不同电压脉冲时间的条件下,通过深能级瞬态谱仪器测量得到碳化硅晶圆与金属电极点构成的肖特基结构的瞬态电容变化曲线,然后根据瞬态电容变化曲线,得到...
该专利属于浙江大学杭州国际科创中心所有,仅供学习研究参考,未经过浙江大学杭州国际科创中心授权不得商用。

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