下载防止因热引起劣化的半导体器件用接触件及其制造方法的技术资料

文档序号:3277894

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本发明的接触件通过在金属弹簧膜的表面层叠形状记忆合金膜而构成,其形状为圆锥螺旋状。其制造方法包括金属牺牲膜的制造工序、抗蚀锥形成工序、抗蚀膜图案形成工序、形状记忆合金膜制造工序等11个工序。由于有机系抗蚀剂材料不具有耐热性,所以,预先形成金...
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