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本发明涉及超声扫查设备技术领域，具体涉及一种超声扫查设备的耦合剂涂抹方法，包括：S1：转动扫查探头，使得超声窗口指向上方，随后采集第一图像；S2：涂抹耦合剂，随后采集第二图像；S3：判断未涂抹耦合剂的区域是否符合预设要求；若否，抹除耦合剂，...
该专利属于上海深至信息科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海深至信息科技有限公司授权不得商用。

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