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本实用新型涉及一种光刻工艺匀胶机匀胶腔结构，主要包括包括匀胶腔外腔体结构、匀胶头机构、支架机构，本实用新型背胶保护罩一方面起到机械防护的作用，另一方面通过注入氮气，在背胶保护罩与芯片之间形成微正压环境，氮气气流从背胶保护罩下面进入，从背胶保...
该专利属于西安派瑞功率半导体变流技术股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西安派瑞功率半导体变流技术股份有限公司授权不得商用。

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