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本实用新型公开了一种高压反应釜的清洗装置，包括罐体，所述罐体的正上方设置有密封盖板，所述密封盖板的顶部设置有泵体，所述泵体的输出端固定相通有排水管，所述排水管的另一端固定相通连接头，所述密封盖板顶部固定设有伺服电机，所述伺服电机的输出端固定...
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