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本发明提供了一种锆合金包壳Cr涂层磁控溅射制备方法，包括如下步骤：将锆合金包壳管材进行抛光后放入磁控溅射设备中，对磁控溅射设备的腔室进行抽真空，分别对锆合金包壳管材和Cr靶表面进行清洗，之后沉积Cr涂层，得到锆合金包壳Cr涂层；沉积Cr涂层...该专利属于中国广核集团有限公司中国广核电力股份有限公司西北工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国广核集团有限公司中国广核电力股份有限公司西北工业大学授权不得商用。