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本发明提供一种形成锂正极保护层的方法。该方法包括活化锂金属正极的表面；及在活化的锂金属正极表面形成ＬｉＦ保护层。...
该专利属于三星SDI株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星SDI株式会社授权不得商用。

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