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本实用新型涉及拼版清洗定位技术领域，具体为一种运用于SMT阶次拼版清洗的通用定位装置，包括基座，所述基座的顶部活动连接有上压销盖组合。本实用新型的优点在于：本装置由基座、上压销盖组合和下托垫块组合构成，并上压销盖组合与下托垫块组合均可以调节...
该专利属于南昌同兴达精密光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过南昌同兴达精密光电有限公司授权不得商用。

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