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本申请涉及一种光学膜及其制备方法,属于光学膜技术领域。该制备方法包括如下步骤:将高折射率涂液涂布于透明基膜的一表面保持常温0.5~1.5 min,然后在第一温度下干燥0.5~1min,再在第二温度下干燥1~2.5 min,后进行紫外照射得到...该专利属于宁波惠之星新材料科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过宁波惠之星新材料科技有限公司授权不得商用。
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