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本发明提供一种光学邻近矫正方法及系统、掩模版、设备与存储介质，所述光学临近矫正的方法包括：提供光学临近矫正模型，所述光学临近矫正模型包括参数集；基于机器学习方法优化所述参数集，通过机器学习训练，筛选出对局部特征尺寸问题具有影响的优化参数，使...
该专利属于中芯国际集成电路制造（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（北京）有限公司授权不得商用。

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