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一种模拟光刻过程的方法，包括这些步骤：产生光刻过程的已校准模型，该模型能推断将由该光刻过程在用于含有多个特征的掩模图案成像时产生的像；并确定已校准模型的操作窗口，该操作窗口确定所述已校准模型是否能精确地推断由所述掩模图案中的特定特征产生的像...
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