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一种可调节自对准低电容集成电路空气间隙结构，包括第一互连（６４ａ），与互连级上的第二互连（６４ｂ）相邻；隔离物（６０ｂ、６０ｃ），沿所述第一和第二互连的相邻侧面形成；以及空气间隙（６８），在所述第一和第二互连之间形成。所述空气间隙延伸到所述...
该专利属于国际商业机器公司所有，仅供学习研究参考，未经过国际商业机器公司授权不得商用。

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