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一种抛光工艺的控制方法。首先，提供一晶片，此晶片上已覆盖一层薄膜。量测薄膜在晶片上的数个区域的膜厚，以得到平均膜厚的分布。之后，依据这些平均膜厚的分布设定一个抛光速率配方。接着，依据此抛光速率配方对该晶片进行抛光工艺。此方法可以改善抛光后膜...
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