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本发明公开了一种折射率场重建修正方法、装置及存储介质，折射率场重建修正方法包括：对背景导向纹影重建模型的层析投影矩阵弦长进行优化；对背景导向纹影重建模型的光线偏折变换比例进行优化；采用优化后的层析投影矩阵弦长和光线偏折变换比例，计算层析投影...
该专利属于东南大学所有，仅供学习研究参考，未经过东南大学授权不得商用。

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