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本发明是有关于一种曝光装置、元件制造方法以及曝光方法，该双重曝光方式的曝光装置，可根据较精简的结构，例如将两种图案重叠曝光于感光性基板上的同一曝光照射区域，以形成一个合成图案。该曝光装置包括：第１照明系统（ＩＬａ），对形成于第一掩模（Ｍａ）...
该专利属于株式会社尼康所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社尼康授权不得商用。

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