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提供一种曝光系统以及半导体装置的制造方法，在以批单位对晶片进行曝光处理时，能够不降低生产量，使每枚晶片的焦点最佳化，形成最佳焦点，并进行曝光。对配置在光罩台（２）上的排列有多个空间图像标记（４ａ～４ｃ）的空间图像标记体（４）进行曝光，通过缩...
该专利属于松下电器产业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过松下电器产业株式会社授权不得商用。

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