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本发明提供一种用于消除被测样品表面不均匀荷电的装置及方法，所述装置的主结构包括：离子溅射靶和离子遮挡板（两者均采用惰性金属制成，且该主结构设置于光电子能谱系统的标准样品托上）。所述方法包括：将被测样品置于所述样品托上，且置于离子溅射靶与离子...
该专利属于北京科技大学顺德研究生院所有，仅供学习研究参考，未经过北京科技大学顺德研究生院授权不得商用。

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