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本发明公开了一种在选择性发射极太阳电池制造过程中用于刻蚀二氧化硅掩膜的浆料的清洗工艺，包括以下步骤：（１）纯水喷淋；（２）超声波清洗；（３）纯水再次喷淋；（４）循环纯水浸渍。与现在普遍采用的用于刻蚀二氧化硅掩膜的浆料的清洗工艺相比，本发明可...
该专利属于上海晶澳太阳能光伏科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海晶澳太阳能光伏科技有限公司授权不得商用。

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