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本发明的实施方式提供一种适合用于蚀刻高纵横比结构的诸如处理室的装置。在其他实施方式中，公开了能在高纵横比蚀刻期间获得优良结果的不同的处理室部件。例如，在一个实施方式中，提供处理室包括具有其中设置有喷头组件和衬底支撑组件的室体。喷头组件包括至...
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