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本发明公开一种肖特基二极管及其制备方法,肖特基二极管包括衬底;中间层设于衬底的上侧,中间层包括外延层和氧化层,中间层的上部形成有多个沟槽,多个沟槽包括多个位于终端区的终端区沟槽,各沟槽具有对应外延层的第一内壁,第一内壁上设有栅氧化层,栅氧化...该专利属于广微集成技术(深圳)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过广微集成技术(深圳)有限公司授权不得商用。
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本发明公开一种肖特基二极管及其制备方法,肖特基二极管包括衬底;中间层设于衬底的上侧,中间层包括外延层和氧化层,中间层的上部形成有多个沟槽,多个沟槽包括多个位于终端区的终端区沟槽,各沟槽具有对应外延层的第一内壁,第一内壁上设有栅氧化层,栅氧化...