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SiC肖特基紫外探测器制造技术
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下载SiC肖特基紫外探测器的技术资料
文档序号:3225006
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一种种SiC肖特基紫外探测器,特征在于:其衬底(1)是n+型半导体SiC,衬底(1)背面是采用电子束蒸发并合金形成欧姆接触的Ti、Ni和Ag三层金属或Ni单层金属(2),衬底(1)上面是n型SiC外延层(3),外延层(3)上面直径300μm...
该专利属于中国科学技术大学所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学技术大学授权不得商用。
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