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本申请属于电解铜箔制备设备技术领域，具体涉及一种电解铜箔制备用抛光辊清洗机。该清洗机包括用于清洁抛光辊表面的清洁槽、以及清洁槽两侧所设支架；清洁槽为一槽体结构，槽体宽度与抛光辊的待清洁的表面宽度相适应；槽体上部设有进水口，以向槽体内置入清洁...
该专利属于灵宝华鑫铜箔有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过灵宝华鑫铜箔有限责任公司授权不得商用。

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