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一种光刻制造掩模方法包括下列步骤：在透明衬底主表面上形成岛状结构；在该表面和整个岛状结构上淀积至少一透明材料层；在整个至少一透明层上淀积光致抗蚀材料层；将该表面对面的衬底表面背面在紫外光中曝光，将至少一部分紫外光反射回光致抗蚀层中；在紫外曝...
该专利属于通用电气公司所有，仅供学习研究参考，未经过通用电气公司授权不得商用。

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