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本发明涉及表达载体培养领域，尤其涉及一种新型表达载体用可防污染的恒压型培养装置，包括有第一支撑架、密闭组件、倒入组件、培育组件等；第一支撑架上方设有密闭组件，密闭组件上设有倒入组件，密闭组件上设有培育组件。在培养表达载体细菌的过程中，固定支...
该专利属于方国平所有，仅供学习研究参考，未经过方国平授权不得商用。

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