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按照真空处理设备的清洗方法，在真空处理设备的处理室中，含有氯原子团的气体对形成于半导体基片上并覆盖有抗蚀图形的薄膜进行蚀刻，之后，在处理室中产生由混合气体稀释而成的稀释气体的等离子体，所述混合气体由含有氧原子团的气体、含有氟子团的气体和含有...
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