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一种用于形成微细图形的曝光掩膜，包括透明电极，在透明电极上形成的铬图形，和在发生绕射效应的铬图形的区域上形成的辅助图形。借助辅助图形，可防止由绕射效应而减小图形尺寸的现象出现。因此，可正确地形成具有预定尺寸的图形。各辅助图形具有条形，倒三角...
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