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杂质的导入方法及其装置和半导体器件的制造方法制造方法及图纸
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文档序号:3222291
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向真空槽内导入惰性或反应性气体,以良好的效率产生杂质,以在固体样品的表面部分上形成高浓度的杂质层。在真空槽内保持杂质固体和固体样品。向真空槽内导入Ar气以形成等离子体。给杂质固体加上使其对于等离子体变成阴极的电压,用等离子体中对杂质固体溅射...
该专利属于松下电器产业株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过松下电器产业株式会社授权不得商用。
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