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绝缘栅场效应晶体管制造技术
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文档序号:3221821
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两侧各被一个沟槽隔离的FET,在隔离沟槽中沿着FET的至少一侧有一电介质。电介质层可以是一层ONO,中间扩散了氧化催化剂。氧化催化剂可以是钾。FET沿着贴近OMO层侧的栅氧化层比两侧之间的栅氧化层厚。...
该专利属于国际商业机器公司;西门子公司所有,仅供学习研究参考,未经过国际商业机器公司;西门子公司授权不得商用。
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