专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
冲电气工业株式会社
>
非易失性半导体存储器及其制造方法技术
>技术资料下载
下载非易失性半导体存储器及其制造方法的技术资料
文档序号:3221807
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种能制造紧凑的非易失性半导体存储器的制造方法。在此制造方法中,依次进行以下步骤。在氧化区形成步骤中,在半导体衬底中平行地形成多个氧化区。在字线形成步骤中,在形成有多个氧化区的半导体衬底上平行地形成与多个氧化区垂直的多条字线。在蚀刻步骤中,...
该专利属于冲电气工业株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过冲电气工业株式会社授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。