下载用以覆盖半导体器件上的孔的改进基层结构及其形成方法的技术资料

文档序号:3221112

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本发明提供一种形成于孔中的基层结构,所说孔的上部直径大于孔其它部分的直径。孔形成于半导体器件的绝缘层中。基层结构包括在至少孔的上部的一部分上和至少靠近孔顶部的绝缘层的一部分之上延伸的基层,其中在所说上部延伸的基层在高度方向有一有效厚度,该厚...
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