专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
日本电气株式会社
>
用以覆盖半导体器件上的孔的改进基层结构及其形成方法技术
>技术资料下载
下载用以覆盖半导体器件上的孔的改进基层结构及其形成方法的技术资料
文档序号:3221112
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明提供一种形成于孔中的基层结构,所说孔的上部直径大于孔其它部分的直径。孔形成于半导体器件的绝缘层中。基层结构包括在至少孔的上部的一部分上和至少靠近孔顶部的绝缘层的一部分之上延伸的基层,其中在所说上部延伸的基层在高度方向有一有效厚度,该厚...
该专利属于日本电气株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过日本电气株式会社授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。