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本发明包括一种光吸收顶层防反射涂层，减小了用于半导体工艺中的光刻胶材料的波动曲线振幅。所说的涂层可以是水基的，但是不一定必须如此。水基涂层的优点是容易使用，因为他可以不与轻度烘烤的光刻胶混合，并且在显影步骤中除去，所以仅仅最小地增加了工艺的...
该专利属于克拉里安装国际有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过克拉里安装国际有限公司授权不得商用。

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