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半导体晶片退火用的灯管退火炉及方法技术
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文档序号:3219963
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一种用灯管装置加热和退火放入腔室内的产品晶片的灯管退火炉。这种退火炉包括装载产品晶片的第一腔室,仅仅装载样本晶片与第一腔室邻近的第二腔室,测量第一腔室和第二腔室内的温度的高温计,和加热第一腔室和第二腔室内的晶片的灯管。样本晶片被周期性地放入...
该专利属于日本电气株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过日本电气株式会社授权不得商用。
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