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提供了一个半导体晶片化学机构抛光的系统，它使转动平台上的抛光板与置于转动和振动着的扣环孔中的半导体晶片作周期性相对运动，环圈表面和晶片与抛光板保持摩擦接触。通过环圈表面中的多个沿圆周间隔开的管道，将ＣＭＰ液输送到邻近抛光板的晶片周边。载片架...
该专利属于因芬尼昂技术北美公司;国际商业机器公司所有，仅供学习研究参考，未经过因芬尼昂技术北美公司;国际商业机器公司授权不得商用。

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