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一种有机硅类低介电常数材料的化学机械研磨平坦化的方法，适用于一基底，此方法的步骤如下：首先在基底上形成有机硅类低介电常数材料层，再使用氧电浆处理该基底，以去除部分有机硅类低介电常数材料层中的碳元素；接着进行化学机械研磨步骤，以使经过氧电浆前...
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