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本发明涉及一种形成图形的方法。所述方法为，在厚２μｍ或更厚的抗蚀图形（１１）上在酸的存在下交联形成涂层（３），并将涂层成形在基质（２）上，用从保护层扩散至涂层的酸交联靠近保护层的涂层（３）以加厚抗蚀图形，并有效地减少线和间隔图形、沟槽图形和...
该专利属于克拉瑞特国际有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过克拉瑞特国际有限公司授权不得商用。

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