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本发明涉及（１）用于半导体生产设备的净化气，通过以一特定比例使ＳＦ＃－［６］和Ｆ＃－［２］、ＮＦ＃－［３］中的一种或两种以及惰性气体混合获得该气体；（２）用于半导体生产设备的净化气，该气体以一特定比例混合ＳＦ＃－［６］和Ｆ＃－［２］、ＮＦ＃...
该专利属于昭和电工株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过昭和电工株式会社授权不得商用。

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