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本发明的目的在于：维持好电容元件中的下方电极对氧的阻挡性，并防止电容元件中由金属氧化物制成的电容绝缘膜被还原。下方电极３１的侧面被膜厚约从５ｎｍ到１００ｎｍ、由氧化铝制成且防止氧及氢扩散的第１绝缘性阻挡层１５覆盖起来。上方电极３３的上面、该...
该专利属于松下电器产业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过松下电器产业株式会社授权不得商用。

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