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本发明揭示一种包含高品质因子的金属－绝缘物－金属（ＭＩＭ）电容的集成电路装置及其制作方法。本发明的包含ＭＩＭ薄膜电容的集成电路装置，其特点是ＭＩＭ电容的薄介电层是以一种具有相对高的介电常数且可被当作一防反射光层（ａｎｔｉ－ｒｅｆｌｅｃｔｉｏ...
该专利属于华邦电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华邦电子股份有限公司授权不得商用。

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