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本发明涉及高压处理装置和高压处理方法，不仅简单地从供给喷嘴（１３、１３）向基板（Ｗ）的表面供给处理流体，而且由各个供给喷嘴１３供给的处理流体的流动方向（Ｒ１，Ｒ１），在基板（Ｗ）表面内相互错开。因此，在基板（Ｗ）的表面上，形成处理流体的旋转...该专利属于大日本网目版制造株式会社;株式会社神户制钢所所有，仅供学习研究参考，未经过大日本网目版制造株式会社;株式会社神户制钢所授权不得商用。