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本发明涉及一种基片保护和转移系统，以及在光刻工具内转移一个基片由大气压至真空的方法。此系统包括一个或多个基片转移盒（１１１）。每个盒具有至少一个通气孔和至少一个过滤器。此系统还包括一个端部操作装置（１１３），与一个机器人臂（１１５）匹配，以...
该专利属于ASML美国公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML美国公司授权不得商用。

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