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一种形成微小接触孔（１６０）的方法，使用一个明场掩模（１３０）以形成一个微小圆柱（１４０）于一层正型抗蚀剂层（１２０）上。负型抗蚀剂层（１５０）环绕圆柱形成，且接着回蚀刻或抛光以留下微小圆柱顶端部分暴露于负型抗蚀剂层上。使负型抗蚀剂层与微小...
该专利属于先进微装置公司所有，仅供学习研究参考，未经过先进微装置公司授权不得商用。

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