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一种蚀刻方法，用于在衬底上介于氮化硅膜形成的氧化硅膜上形成纵横比高的凹部，包括使用由Ａｒ气、Ｏ＃－［２］气、Ｃ＃－［５］Ｆ＃－［８］气、ＣＨ＃－［２］Ｆ＃－［２］气的混合气体构成的蚀刻气体进行蚀刻的步骤。...
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