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本实用新型提供了一种电解铜箔用清洗设备，包括底座，底座上端一侧设有清洁箱，清洁箱内部设有铜箔通道，铜箔通道两侧分别设有安装腔体，安装腔体内部设有清洁水池，安装腔体开口处转动连接有两个旋转轴，两个旋转轴之间连接有输送带，输送带上安装有多个清洁...
该专利属于云南惠铜新材料科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过云南惠铜新材料科技有限公司授权不得商用。

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