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一种在等离子体蚀刻反应器的反应室中蚀刻介质材料的方法，包括：　　　　ａ）在等离子体蚀刻反应器的反应室中在衬底支撑上放置包括介质材料的衬底，反应室容纳有下电极和具有至少约０．２７英寸最小厚度的硅上电极；　　　　ｂ）将处理气体引入反应室；　　　...
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