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光掩模制造技术
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文档序号:3207937
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一种光掩模,它具有形成在透光基板上的光掩模图案和所述透光基板上未形成所述光掩模图案的透光部分,其特征为:所述光掩模图案,具有通过曝光而被转移的主图案、让曝光光衍射且通过曝光却不转移的辅助图案;所述主图案,由具有让所述曝光光部 ...
该专利属于松下电器产业株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过松下电器产业株式会社授权不得商用。
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