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本实用新型提供一种具有对开式遮蔽构件的沉积设备,包括一腔室主体、一承载盘及一对开式遮蔽构件,其中承载盘及部分的对开式遮蔽构件位于腔室主体内。腔室主体包括一反应腔体及两个感测区,其中两个感测区连接反应腔体,且感测区的厚度小于反应腔体。对开式遮...该专利属于鑫天虹(厦门)科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过鑫天虹(厦门)科技有限公司授权不得商用。
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本实用新型提供一种具有对开式遮蔽构件的沉积设备,包括一腔室主体、一承载盘及一对开式遮蔽构件,其中承载盘及部分的对开式遮蔽构件位于腔室主体内。腔室主体包括一反应腔体及两个感测区,其中两个感测区连接反应腔体,且感测区的厚度小于反应腔体。对开式遮...