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本公开提供一种薄膜晶体管，属于显示技术领域，其可解决现有的薄膜晶体管的制备过程中需要较多数量的掩膜板的问题。本公开的薄膜晶体管包括：基底、位于基底上的有源层、位于有源层背离基底一侧的栅极绝缘层、及位于栅极绝缘层背离基底一侧的第一电极、栅极和...
该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

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