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本实用新型公开了烫印等离子处理器，包括烫印等离子处理设备本体，所述烫印等离子处理设备本体的底部固定连接有固定座，所述固定座为底端开口的空腔结构，所述固定座内设有活动支撑板，所述活动支撑板的底部设有若干滚轮，所述活动支撑板的顶部与固定座的顶部...
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