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气相沉积制备一维氧化物阵列材料的方法及其装置制造方法及图纸
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文档序号:3206532
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一种采用大气开放式金属有机物化学气相沉积制备一维氧化物阵列材料的方法,其特征在于:包括下列步骤, (A)基片处理 选取基片,将其切成所需大小的载体,依次放到丙酮、无水乙醇和去离子水中,在超声波清洗器中分别清洗15~20分钟去除基...
该专利属于北京航空航天大学所有,仅供学习研究参考,未经过北京航空航天大学授权不得商用。
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